顆粒計數能夠較好地預估磨損情況的嚴重性，并且很容易檢測出顆粒從小到大的轉變趨勢。顆粒計數通常使用以下技術(shù):光阻法、直接成像或孔阻塞柱塞法等技術(shù)。

1，關(guān)于光阻技術(shù)

      光阻技術(shù)，受到重合效應(顆粒重疊)和煙炱顆粒的干擾。因此，該方法僅適用于分析在污染控制工業(yè)中與機器內部接觸較少的清潔半透明油液

2，關(guān)于直接成像

      直接成像技術(shù)，通過(guò)使用CCD傳感器處理更大面積上的顆粒來(lái)計算重合效應。樣品通過(guò)脈沖激光二極管照射，可以將稀釋前樣品的光通量提高到約2%，并克服樣品中煙炱顆粒的影響。

3，孔阻塞柱塞法

     傳統的孔阻塞裝置類(lèi)似于光學(xué)顆粒計數器，因為，其在顆粒物相對低的水平下就會(huì )達到量程上限，所以不適合于精確量化機器中嚴重污染磨損的樣品。然而，它們在處理含有碳煙或水的油液樣品時(shí)，更有優(yōu)勢，因為這些污染物可以順利通過(guò)孔而不增加信號輸出。這是孔堵塞技術(shù)優(yōu)于光阻擋和直接成像技術(shù)的主要優(yōu)點(diǎn)。